光刻胶背面涂层
CAS 编号: 25035-69-2
光刻胶背面涂层是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
技术规格
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/电子束 |
| particle size | <0.1 μm |
应用领域
- 半导体制造
- PCB制造
- MEMS制造
- 平板显示
- 先进封装
产品特点
- 光刻胶背面涂层高分辨率图案化
- 超高纯度
- 优异灵敏度
- 货架稳定性好
CAS 编号: 25035-69-2
光刻胶背面涂层是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/电子束 |
| particle size | <0.1 μm |