光刻胶 / 光化学品
共 49 个产品
光刻胶 / 光化学品
Photoresists, developers and strippers for lithography and PCB processes
共 49 个产品
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photoresist photochemicals
酸不稳定保护基
CAS: 80-62-6
酸不稳定保护基是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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抗反射涂层
CAS: 9003-01-4
抗反射涂层是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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水溶性碱性显影液
CAS: 1310-73-2
水溶性碱性显影液是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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ArF光刻胶树脂
CAS: 9003-01-4
ArF光刻胶树脂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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双叠氮光敏剂
CAS: 621-71-6
双叠氮光敏剂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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底部BPSG抗反射
CAS: 12008-41-2
底部BPSG抗反射是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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碳硬掩膜
CAS: 7440-44-0
碳硬掩膜是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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铸造溶剂PGMEA
CAS: 108-65-6
铸造溶剂PGMEA是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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阳离子光刻胶树脂
CAS: 25036-25-3
阳离子光刻胶树脂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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环戊酮光刻溶剂
CAS: 120-92-3
环戊酮光刻溶剂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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深紫外光敏剂
CAS: 50-14-6
深紫外光敏剂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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四甲基氢氧化铵显影液
CAS: 75-59-2
四甲基氢氧化铵显影液是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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干膜光刻胶
CAS: 25036-25-3
干膜光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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EUV光刻胶材料
CAS: 25035-69-2
EUV光刻胶材料是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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边缘珠粒去除剂
CAS: 67-64-1
边缘珠粒去除剂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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电子束光刻胶
CAS: 25035-69-2
电子束光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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环氧SU-8光刻胶
CAS: 28906-96-9
环氧SU-8光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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氟化光酸产生剂
CAS: 29420-49-3
氟化光酸产生剂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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氟聚合物光刻胶
CAS: 9002-84-0
氟聚合物光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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氟聚合物顶涂
CAS: 9002-84-0
氟聚合物顶涂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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I线光刻胶
CAS: 9003-01-4
I线光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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KrF光刻胶
CAS: 25036-25-3
KrF光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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剥离工艺光刻胶
CAS: 9003-01-4
剥离工艺光刻胶是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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纳米压印树脂
CAS: 80-62-6
纳米压印树脂是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
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