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Photoresists, developers and strippers for lithography and PCB processes
photoresist photochemicals
CAS: 1336-21-6
晶圆清洗SC1化学品是用于半导体光刻和PCB制造的高纯度光化学品，提供精确图案定义、优异灵敏度和与先进光刻工艺的兼容性。
