Grupo Protector Lábil en Ácido
Número CAS: 80-62-6
El Grupo Protector Lábil en Ácido es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/e-beam |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de circuitos impresos (PCB)
- Fabricación de MEMS
- Pantallas de panel plano
- Empaquetado avanzado
Características Principales
- Patterning de alta resolución con Grupo Protector Lábil en Ácido
- Pureza ultraelevada
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable en almacenamiento
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CAS Number
80-62-6
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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