Fotoresistentes / Fotoquímicos
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photoresist photochemicals
Grupo Protector Lábil en Ácido
CAS: 80-62-6
El Grupo Protector Lábil en Ácido es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Antirreflejante ARC
CAS: 9003-01-4
El Recubrimiento Antirreflejante ARC es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Revelador Alcalino Acuoso
CAS: 1310-73-2
El Revelador Alcalino Acuoso es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina para Fotorresina ArF
CAS: 9003-01-4
La Resina para Fotorresina ArF es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Sensibilizador Bis-Azida
CAS: 621-71-6
El Sensibilizador Bis-Azida es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y en la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Bottom ARC BPSG
CAS: 12008-41-2
Bottom ARC BPSG es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Máscara Dura de Carbono
CAS: 7440-44-0
La Máscara Dura de Carbono es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrones precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Disolvente Cast PGMEA
CAS: 108-65-6
El Disolvente Cast PGMEA es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Catiónica
CAS: 25036-25-3
La Resina Fotorresistente Catiónica es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Disolvente para Resist de Ciclopentanona
CAS: 120-92-3
El Disolvente para Resist de Ciclopentanona es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotosensibilizador UV Profundo
CAS: 50-14-6
El Fotosensibilizador UV Profundo es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Brinda una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Revelador TMAH
CAS: 75-59-2
El Revelador TMAH es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente de Película Seca
CAS: 25036-25-3
El Fotorresistente de Película Seca es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Material Fotorresistente EUV
CAS: 25035-69-2
Material Fotorresistente EUV es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Removedor de Rebabas de Borde
CAS: 67-64-1
El Removedor de Rebabas de Borde es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina para Haz de Electrones
CAS: 25035-69-2
La Resina para Haz de Electrones es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresina Epoxi SU-8
CAS: 28906-96-9
La Fotorresina Epoxi SU-8 es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotogenerador de Ácido Fluorado
CAS: 29420-49-3
Fotogenerador de Ácido Fluorado es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresiste de Fluoropolímero
CAS: 9002-84-0
El Fotorresiste de Fluoropolímero es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Capa de Acabado de Fluoropolímero
CAS: 9002-84-0
La Capa de Acabado de Fluoropolímero es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresist de Línea I
CAS: 9003-01-4
El Fotorresist de Línea I es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente KrF
CAS: 25036-25-3
El Fotorresistente KrF es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente de Lift-Off
CAS: 9003-01-4
El Fotorresistente de Lift-Off es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina de Nanoimpresión
CAS: 80-62-6
La Resina de Nanoimpresión es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Sensibilizador Near-IR
CAS: 147-14-8
El Sensibilizador Near-IR es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Negativa
CAS: 25036-25-3
La Resina Fotorresistente Negativa es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotoiniciador de Sal de Onio
CAS: 66992-89-0
El Fotoiniciador de Sal de Onio es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Amina Quencher PEB
CAS: 100-51-6
La Amina Quencher PEB es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resist Electrónico de PMMA
CAS: 9011-14-7
El Resist Electrónico de PMMA es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador Fotoácido PAG
CAS: 4170-30-3
El Generador Fotoácido PAG es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador Fotobásico PBG
CAS: 143-22-6
El Generador Fotobásico PBG es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Monómero Epoxi Fotocurable
CAS: 2426-07-5
El Monómero Epoxi Fotocurable es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Promotor de Adhesión para Fotorresina HMDS
CAS: 999-97-3
El Promotor de Adhesión para Fotorresina HMDS es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Posterior para Fotorresina
CAS: 25035-69-2
El Recubrimiento Posterior para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Aditivo de Horneado para Fotorresina
CAS: 25035-69-2
El Aditivo de Horneado para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Aditivo Nivelante para Fotorresina
CAS: 9003-01-4
El Aditivo Nivelante para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Solvente Removedor de Fotorresina
CAS: 872-50-4
El Solvente Removedor de Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Diluyente para Fotorresina
CAS: 108-65-6
El Diluyente para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Positiva
CAS: 9003-01-4
La Resina Fotorresistente Positiva es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Inhibidor de Disolución para Resist
CAS: 25985-97-9
Inhibidor de Disolución para Resist es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Solución de Enjuague para Fotolitografía
CAS: 7732-18-5
La Solución de Enjuague para Fotolitografía es un fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Sensibilizador Diazonaftoquinona
CAS: 944-07-4
El Sensibilizador Diazonaftoquinona es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotosensible con Silicio
CAS: 63148-62-9
La Resina Fotosensible con Silicio es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Ofrece definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Antirreflectante de Silicona
CAS: 63148-62-9
El Antirreflectante de Silicona es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Dieléctrico por Centrifugación
CAS: 25035-69-2
El Dieléctrico por Centrifugación es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Vidrio Spin-On SiO2
CAS: 7631-86-9
El Vidrio Spin-On SiO2 es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador de Ácido Térmico
CAS: 4170-30-3
El Generador de Ácido Térmico es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Antirreflectante Superior TARC
CAS: 25036-25-3
El Recubrimiento Antirreflectante Superior TARC es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Producto Químico SC1 para Limpieza de Obleas
CAS: 1336-21-6
El Producto Químico SC1 para Limpieza de Obleas es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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