Chemzip

Fotorresiste de Fluoropolímero

Número CAS: 9002-84-0

El Fotorresiste de Fluoropolímero es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.

Especificaciones Técnicas

purity≥99.9%
metal ions<1 ppb
sensitivityUV/e-beam
particle size<0.1 μm

Aplicaciones

  • Fabricación de semiconductores
  • Fabricación de PCB
  • Fabricación de MEMS
  • Pantallas de panel plano
  • Envasado avanzado

Características Principales

  • Definición de patrones de alta resolución con Fotorresiste de Fluoropolímero
  • Pureza ultraelevada
  • Excelente sensibilidad
  • Vida útil estable

Send Inquiry

Your information is used only to respond to your inquiry and will not be shared.

Fotorresiste de Fluoropolímero chemical structure

CAS Number

9002-84-0

Availability

In Stock

Sample

Dispatched within 5 days

Get a QuoteWhatsApp

Más en Fotoresistentes / Fotoquímicos

TelegramWhatsApp