Máscara Dura de Carbono
Número CAS: 7440-44-0
La Máscara Dura de Carbono es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrones precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/haz de electrones |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de PCB
- Fabricación de MEMS
- Pantalla plana
- Encapsulado avanzado
Características Principales
- Patronamiento de alta resolución con Máscara Dura de Carbono
- Pureza ultra alta
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable
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CAS Number
7440-44-0
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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