Material Fotorresistente EUV
Número CAS: 25035-69-2
Material Fotorresistente EUV es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/e-beam |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de PCB
- Fabricación de MEMS
- Pantallas de panel plano
- Empaquetado avanzado
Características Principales
- Definición de patrones de alta resolución con Material Fotorresistente EUV
- Pureza ultraelevada
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable en almacenamiento
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CAS Number
25035-69-2
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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