Resist Electrónico de PMMA
Número CAS: 9011-14-7
El Resist Electrónico de PMMA es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/haz de electrones |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de PCB
- Fabricación de MEMS
- Pantallas planas
- Encapsulado avanzado
Características Principales
- Patronado de alta resolución con Resist Electrónico de PMMA
- Pureza ultra alta
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable
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CAS Number
9011-14-7
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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