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Fotorresistente de Lift-Off

Número CAS: 9003-01-4

El Fotorresistente de Lift-Off es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.

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Especificaciones Técnicas

purity≥99.9%
metal ions<1 ppb
sensitivityUV/e-beam
particle size<0.1 μm

Aplicaciones

  • Fabricación de semiconductores
  • Fabricación de PCB
  • Fabricación de MEMS
  • Pantallas de panel plano
  • Empaquetado avanzado

Características Principales

  • Definición de patrones de alta resolución con Fotorresistente de Lift-Off
  • Pureza ultraalta
  • Excelente sensibilidad
  • Vida útil de almacenamiento estable

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Fotorresistente de Lift-Off chemical structure

CAS Number

9003-01-4

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