Inhibidor de Disolución para Resist
Número CAS: 25985-97-9
Inhibidor de Disolución para Resist es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/haz de electrones |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de PCB
- Fabricación de MEMS
- Pantallas planas
- Encapsulado avanzado
Características Principales
- Patronado de alta resolución con Inhibidor de Disolución para Resist
- Pureza ultraelevada
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable
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CAS Number
25985-97-9
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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