Fotorresist de Línea I
Número CAS: 9003-01-4
El Fotorresist de Línea I es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
Especificaciones Técnicas
| purity | ≥99.9% |
| metal ions | <1 ppb |
| sensitivity | UV/haz de electrones |
| particle size | <0.1 μm |
Aplicaciones
- Fabricación de semiconductores
- Fabricación de PCB
- Fabricación de MEMS
- Pantallas planas
- Empaquetado avanzado
Características Principales
- Formación de patrones de alta resolución con Fotorresist de Línea I
- Pureza ultra elevada
- Excelente sensibilidad
- Vida útil estable en almacenamiento
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CAS Number
9003-01-4
Category
Fotoresistentes / FotoquímicosAvailability
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