Fotoresistentes / Fotoquímicos
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Fotoresistentes / Fotoquímicos
Photoresists, developers and strippers for lithography and PCB processes
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photoresist photochemicals
Sensibilizador Near-IR
CAS: 147-14-8
El Sensibilizador Near-IR es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Negativa
CAS: 25036-25-3
La Resina Fotorresistente Negativa es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotoiniciador de Sal de Onio
CAS: 66992-89-0
El Fotoiniciador de Sal de Onio es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Amina Quencher PEB
CAS: 100-51-6
La Amina Quencher PEB es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resist Electrónico de PMMA
CAS: 9011-14-7
El Resist Electrónico de PMMA es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador Fotoácido PAG
CAS: 4170-30-3
El Generador Fotoácido PAG es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador Fotobásico PBG
CAS: 143-22-6
El Generador Fotobásico PBG es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Monómero Epoxi Fotocurable
CAS: 2426-07-5
El Monómero Epoxi Fotocurable es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Promotor de Adhesión para Fotorresina HMDS
CAS: 999-97-3
El Promotor de Adhesión para Fotorresina HMDS es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Posterior para Fotorresina
CAS: 25035-69-2
El Recubrimiento Posterior para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Aditivo de Horneado para Fotorresina
CAS: 25035-69-2
El Aditivo de Horneado para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Aditivo Nivelante para Fotorresina
CAS: 9003-01-4
El Aditivo Nivelante para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Solvente Removedor de Fotorresina
CAS: 872-50-4
El Solvente Removedor de Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Diluyente para Fotorresina
CAS: 108-65-6
El Diluyente para Fotorresina es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Positiva
CAS: 9003-01-4
La Resina Fotorresistente Positiva es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Inhibidor de Disolución para Resist
CAS: 25985-97-9
Inhibidor de Disolución para Resist es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Solución de Enjuague para Fotolitografía
CAS: 7732-18-5
La Solución de Enjuague para Fotolitografía es un fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Sensibilizador Diazonaftoquinona
CAS: 944-07-4
El Sensibilizador Diazonaftoquinona es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotosensible con Silicio
CAS: 63148-62-9
La Resina Fotosensible con Silicio es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Ofrece definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Antirreflectante de Silicona
CAS: 63148-62-9
El Antirreflectante de Silicona es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Dieléctrico por Centrifugación
CAS: 25035-69-2
El Dieléctrico por Centrifugación es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Vidrio Spin-On SiO2
CAS: 7631-86-9
El Vidrio Spin-On SiO2 es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Generador de Ácido Térmico
CAS: 4170-30-3
El Generador de Ácido Térmico es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Antirreflectante Superior TARC
CAS: 25036-25-3
El Recubrimiento Antirreflectante Superior TARC es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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