Fotoresistentes / Fotoquímicos
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Fotoresistentes / Fotoquímicos
Photoresists, developers and strippers for lithography and PCB processes
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photoresist photochemicals
Grupo Protector Lábil en Ácido
CAS: 80-62-6
El Grupo Protector Lábil en Ácido es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Recubrimiento Antirreflejante ARC
CAS: 9003-01-4
El Recubrimiento Antirreflejante ARC es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Revelador Alcalino Acuoso
CAS: 1310-73-2
El Revelador Alcalino Acuoso es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina para Fotorresina ArF
CAS: 9003-01-4
La Resina para Fotorresina ArF es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Sensibilizador Bis-Azida
CAS: 621-71-6
El Sensibilizador Bis-Azida es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en la litografía de semiconductores y en la fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Bottom ARC BPSG
CAS: 12008-41-2
Bottom ARC BPSG es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Máscara Dura de Carbono
CAS: 7440-44-0
La Máscara Dura de Carbono es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrones precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Disolvente Cast PGMEA
CAS: 108-65-6
El Disolvente Cast PGMEA es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina Fotorresistente Catiónica
CAS: 25036-25-3
La Resina Fotorresistente Catiónica es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Disolvente para Resist de Ciclopentanona
CAS: 120-92-3
El Disolvente para Resist de Ciclopentanona es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotosensibilizador UV Profundo
CAS: 50-14-6
El Fotosensibilizador UV Profundo es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Brinda una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Revelador TMAH
CAS: 75-59-2
El Revelador TMAH es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente de Película Seca
CAS: 25036-25-3
El Fotorresistente de Película Seca es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Material Fotorresistente EUV
CAS: 25035-69-2
Material Fotorresistente EUV es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Removedor de Rebabas de Borde
CAS: 67-64-1
El Removedor de Rebabas de Borde es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina para Haz de Electrones
CAS: 25035-69-2
La Resina para Haz de Electrones es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresina Epoxi SU-8
CAS: 28906-96-9
La Fotorresina Epoxi SU-8 es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotogenerador de Ácido Fluorado
CAS: 29420-49-3
Fotogenerador de Ácido Fluorado es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresiste de Fluoropolímero
CAS: 9002-84-0
El Fotorresiste de Fluoropolímero es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Capa de Acabado de Fluoropolímero
CAS: 9002-84-0
La Capa de Acabado de Fluoropolímero es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresist de Línea I
CAS: 9003-01-4
El Fotorresist de Línea I es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente KrF
CAS: 25036-25-3
El Fotorresistente KrF es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de circuitos impresos. Proporciona una definición precisa del patrón, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Fotorresistente de Lift-Off
CAS: 9003-01-4
El Fotorresistente de Lift-Off es un producto fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición precisa de patrones, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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Resina de Nanoimpresión
CAS: 80-62-6
La Resina de Nanoimpresión es un fotoquímico de alta pureza utilizado en litografía de semiconductores y fabricación de PCB. Proporciona una definición de patrón precisa, excelente sensibilidad y compatibilidad con procesos avanzados de fotolitografía.
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