TMAH光刻胶显影液
CAS 编号: 75-59-2
TMAH（四甲基氢氧化铵）光刻胶显影液是半导体和平板显示制造中正性光刻胶的行业标准水性碱性显影液。它精确显影曝光光刻胶区域，不残留金属离子污染，与CMOS工艺兼容。以2.38%标准浓度供应，适用于大多数光刻胶体系，也提供专用工艺替代浓度。
技术规格
| pH | 12.5–13.5 |
| TOC | 总有机碳 <1 ppm |
| metalIons | 金属离子 <1 ppb（Na、K、Ca、Fe各离子） |
| particles | 颗粒 <50个/mL（>0.2 µm） |
| appearance | 透明无色溶液 |
| TMAHConcentration | TMAH浓度 2.38 wt%（标准） |
应用领域
- KrF和ArF光刻胶显影
- g线和i线光刻胶显影
- EUV光刻胶显影
- 平板显示TFT光刻工艺
- MEMS图形化显影
产品特点
- 无金属离子，与CMOS工艺兼容
- 全片显影均匀性一致
- 标准2.38%浓度，与广泛光刻胶兼容
- 超高纯度，金属污染低于ppb级