缓冲氧化物刻蚀液（BOE）NH4F/HF
CAS 编号: 7664-39-3
缓冲氧化物刻蚀液（BOE）是氟化铵（NH4F）与氢氟酸（HF）的混合液，可提供稳定可控的二氧化硅刻蚀速率。氟化铵缓冲剂维持稳定pH并补充氟离子，相比纯HF具有更均匀、可重复的氧化物刻蚀速率，广泛用于MEMS、CMOS及显示面板制造工艺。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体 |
| 金属杂质 | 各项≤1 ppb |
| NH4F:HF比例 | 6:1或10:1（体积比，可定制） |
| 含量（%） | ≥99.5（有效成分含量） |
| SiO2刻蚀速率 | 100–1000 Å/min（取决于配比） |
应用领域
- 热氧化和PECVD二氧化硅刻蚀
- MEMS牺牲氧化层释放
- CMOS接触孔及通孔开口
- 兼容光刻胶的湿法刻蚀工艺
- 显示TFT栅极介质图形化
产品特点
- 刻蚀速率稳定，槽液使用寿命内漂移极小
- 与光刻胶兼容性好，钻蚀量低
- 提供标准6:1和10:1 NH4F:HF比例产品
- 超高纯度规格符合SEMI C12标准