氩气溅射气体（Ar超纯级）
CAS 编号: 7440-37-1
超纯氩气（Ar）是半导体制造中物理气相沉积（PVD）、离子束刻蚀和等离子体刻蚀工艺的主要溅射和载气。氩离子被加速轰击金属和介质靶材，用于薄膜沉积（Al、Cu、Ti、TiN、TaN），或进行氩离子研磨，在III-V族和磁性器件制造中进行图形化定义。
技术规格
| 外观 | 无色无味惰性气体 |
| 氧气 | ≤0.1 ppm |
| 氮气 | ≤0.5 ppm |
| 水分 | ≤0.1 ppm |
| 含量（%） | ≥99.9999（6N半导体级） |
应用领域
- Al、Cu、Ti、TiN、TaN金属薄膜PVD（溅射）
- 图形刻蚀氩离子研磨
- 等离子体刻蚀载气和稀释气体
- CVD和ALD惰性载气/吹扫气
- 离子注入束流气体
产品特点
- 6N纯度防止PVD溅射中的靶材和薄膜污染
- 化学惰性——不与靶材或沉积薄膜反应
- 在宽压力范围内等离子体点燃和稳定性一致
- 提供高压钢瓶、管束和液态散装供应