底部抗反射涂层（BARC）
底部抗反射涂层（BARC）是旋涂在光刻胶下方的有机或无机层，用于抑制UV和DUV光刻过程中因基板反射率引起的驻波和反射凹陷。通过调节薄膜厚度和折射率（n, k），BARC最大限度减少光刻胶/基板界面处的反射光，改善大批量生产中的CD均匀性、分辨率和焦深。
技术规格
| 外观 | 透明至琥珀色旋涂溶液 |
| 薄膜厚度 | 20–100 nm（旋涂转速控制） |
| 含量（%） | ≥99.5（聚合物固含量） |
| 折射率（193nm处n） | 1.4–1.8（可调） |
| 消光系数（193nm处k） | 0.3–0.6（可调） |
应用领域
- 193nm ArF DUV光刻CD控制
- 248nm KrF光刻驻波抑制
- EUV和高NA EUV图形化下层
- 金属和多晶硅反射基板控制
- 多层光刻胶（MLR）工艺中间层
产品特点
- 可调光学常数，精确控制任意曝光波长的反射率
- 快速热交联（200–250°C），防止与上层光刻胶混合
- 高干法刻蚀速率，实现无掩膜负载效应的清洁刻蚀减薄
- 与标准TMAH显影兼容——在单次显影步骤中与光刻胶同时开口