六甲基二硅氮烷（HMDS）附着力促进剂
CAS 编号: 999-97-3
六甲基二硅氮烷（HMDS）是半导体光刻中通用的光刻胶附着力促进剂。在光刻胶涂布前通过气相预处理或旋涂方式施加，HMDS与表面OH基反应形成疏水三甲基甲硅烷基（TMS）单层，显著提高光刻胶在氧化物和氮化物表面的附着力，防止显影过程中图案脱落。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体 |
| 沸点 | 125°C |
| 水分含量 | ≤20 ppm |
| 金属杂质 | 各项≤0.1 ppb |
| 含量（%） | ≥99.9（GC法） |
应用领域
- 光刻胶旋涂前气相预处理（HMDS烘箱）
- 氧化物和氮化物表面疏水化
- 通孔和接触孔侧壁上光刻胶附着力
- 干法显影光刻胶的晶圆表面制备
- HF清洗后硅晶圆表面钝化
产品特点
- 行业标准附着力促进剂，在所有主流光刻胶平台上经过验证
- 气相预处理实现复杂3D晶圆形貌的均匀处理
- 超低水分含量防止储存过程中过早水解
- 与g线、i线、DUV 248nm和193nm光刻胶体系兼容