半导体级氢氧化铵（NH4OH SC-1清洗）
CAS 编号: 1336-21-6
半导体级氢氧化铵（28–30% NH3）是RCA SC-1清洗液（NH4OH/H2O2/H2O）的关键成分，用于去除硅晶圆的颗粒和有机污染物，也能轻微刻蚀氧化硅以使颗粒脱落。超高纯度防止在关键栅前氧化清洗中引入金属污染。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体 |
| 金属杂质 | 各项≤1 ppb（SEMI C5级） |
| 含量（%） | ≥28.0（NH3含量） |
| 不挥发残留物 | ≤1 ppm |
| 氯离子（Cl-） | ≤0.1 ppm |
应用领域
- SC-1（APM）颗粒和有机物去除清洗
- 栅前RCA清洗序列
- 轻微氧化硅刻蚀使颗粒脱落
- TMAH基显影液添加剂
- CMP后清洗用氨-双氧水混合液（APM）
产品特点
- SEMI C5超高纯度级别，适用于关键SC-1 RCA清洗序列
- 受控NH3含量确保SC-1刻蚀速率和颗粒去除的可重复性
- 低不挥发残留物防止清洗后表面污迹
- 密封HDPE容器供货，支持冷链运输