半导体级双氧水（H2O2 30%）
CAS 编号: 7722-84-1
半导体级双氧水（30%）是RCA SC-1和SC-2晶圆清洗工艺中去除有机物和离子污染的关键氧化剂。与氢氧化铵混合（SC-1）可去除颗粒和有机物；与HCl混合（SC-2）可溶解金属离子；也是SPM食人鱼清洗液的关键成分。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体 |
| 稳定剂 | ≤100 ppm（可提供无磷酸盐级别） |
| 金属杂质 | 各项≤1 ppb（SEMI C3级） |
| 含量（%） | ≥30.0（H2O2含量） |
| 总有机碳（TOC） | ≤100 ppb |
应用领域
- SC-1（NH4OH/H2O2/H2O）颗粒和有机物去除
- SC-2（HCl/H2O2/H2O）金属污染清洗
- SPM（H2SO4/H2O2）光刻胶剥离
- 表面氧化钝化
- 铜CMP后清洗氧化淋洗
产品特点
- SEMI C3超高纯度级别，兼容所有RCA清洗序列
- 可提供无稳定剂级别，适用于关键栅极氧化工艺
- 低TOC，最大限度减少清洗过程中的有机再污染
- 低温HDPE容器供货，配有泄压盖