RCA SC-1清洗试剂（NH4OH/H2O2/H2O）
RCA SC-1（标准清洗1，APM：氨-双氧水混合液）是即用型或分组件供应的清洗体系，采用NH4OH:H2O2:H2O（1:1:5至1:2:10体积比），在65–80°C下去除硅晶圆表面颗粒和轻度有机污染。轻微氧化刻蚀成分使颗粒脱落，H2O2氧化有机物，清洗后颗粒水平可达0.1个/cm2以下。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体（各组分） |
| 使用温度 | 65–80°C |
| 金属杂质 | 各项≤1 ppb（各组分） |
| 含量（%） | ≥99.9（各组分） |
| NH4OH:H2O2:H2O比例 | 1:1:5（标准，可调节） |
应用领域
- 栅前氧化颗粒和有机物去除
- 扩散炉前标准清洗步骤
- RCA序列FEOL晶圆清洗
- CMP后颗粒去除清洗
- 金属沉积前表面制备
产品特点
- 经过验证的RCA工艺，具有数十年的行业认证数据
- 通过Zeta电位排斥机制有效去除颗粒
- 组分可单独供应或以预混套装供应
- 兼容200mm和300mm批量及单片晶圆清洗设备