半导体级盐酸（HCl 37%）
CAS 编号: 7647-01-0
半导体级盐酸（37%）是RCA SC-2清洗中去除金属离子和氧化层的关键化学品，能与重金属形成络合物并将其从晶圆表面去除，用于HCl/H2O2/H2O（SC-2）混合液以在氧化炉工艺前消除碱金属和重金属污染。
技术规格
| 外观 | 无色至淡黄色透明液体 |
| 金属杂质 | 各项≤1 ppb（SEMI C4级） |
| 含量（%） | ≥37.0（HCl含量） |
| 游离氯（Cl2） | ≤0.1 ppm |
| 硫酸根（SO4） | ≤0.1 ppm |
应用领域
- SC-2（RCA-2）金属污染去除清洗
- 重金属和碱离子去污
- 氧化炉前晶圆清洗
- 金和铂金属刻蚀
- 王水（HCl/HNO3）配制
产品特点
- SEMI C4超高纯度级别，适用于RCA-2 SC-2清洗工艺
- 金属络合能力强，有效去除硅表面离子
- 低硫酸根和铁含量，防止栅极氧化层可靠性问题
- 采用HDPE或石英容器供货，最大程度保持纯度