丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）
CAS 编号: 108-65-6
PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）是193nm和EUV光刻工艺先进光刻胶配方中最主要的光刻胶溶剂。其最优挥发速率、对树脂的优异溶解性和低毒性，使其成为正性和负性光刻胶的工业标准成膜溶剂。超纯半导体级最大限度减少缺陷并确保膜层均匀性。
技术规格
| 外观 | 无色透明液体 |
| 水分含量 | ≤100 ppm |
| 金属杂质 | 各项≤0.1 ppb（SEMI C7级） |
| 含量（%） | ≥99.9（GC法） |
| 不挥发残留物 | ≤0.5 ppm |
应用领域
- 193nm ArF和EUV光刻胶成膜溶剂
- 化学放大光刻胶（CAR）配方
- 抗反射涂层（ARC/BARC）溶剂
- 旋涂介质和SOG配方溶剂
- 光刻胶稀释用于薄膜厚度控制
产品特点
- SEMI C7超高纯度级别，适用于先进节点EUV光刻
- 优化的挥发速率，确保均匀旋涂成膜
- 最低不挥发残留物，确保无缺陷光刻胶涂层
- 防潮包装，将水分含量维持在100 ppm以下