三氟化氮腔室清洁气体（NF3）
CAS 编号: 7783-54-2
三氟化氮（NF3）是CVD和ALD反应器远程等离子体腔室清洁的首选气体，由于其优越的全球变暖潜势（GWP）特性和更高的利用效率，逐步替代C2F6和CF4。NF3等离子体产生活性F自由基，高效去除CVD腔室壁上的硅基沉积物（SiO2、Si3N4、a-Si），无需晶圆暴露，大幅减少腔室停机时间。
技术规格
| 外观 | 无色气体 |
| 氧气 | ≤1 ppm |
| 水分 | ≤1 ppm |
| 含量（%） | ≥99.999（5N半导体级） |
| CF4及其他氟碳化合物 | ≤5 ppm |
应用领域
- PECVD SiO2和Si3N4腔室远程等离子体清洁
- CVD钨反应器清洁
- ALD腔室运行间隙氟清洁
- 硅外延反应器原位清洁
- 热CVD氧化物炉管清洁
产品特点
- 远程等离子体清洁中接近100%的利用效率，而C2F6不足20%
- GWP为17,200（100年），但有效利用率意味着更低的绝对排放量
- 快速清洁周期减少腔室停机时间，提高设备产能
- 清洁周期后腔室中无氟碳残留