Ácido Fluorhídrico Grado Semiconductor (HF 49%)
Número CAS: 7664-39-3
El ácido fluorhídrico grado semiconductor (49% HF) es una solución acuosa ultra pura utilizada para el ataque químico de óxido de silicio, la eliminación del óxido nativo y la limpieza de superficies de obleas. Cumple con las especificaciones de pureza SEMI C1 o SEMI C8 con impurezas metálicas a niveles sub-ppb. Crítico para los procesos de ataque químico en húmedo del front-end-of-line (FEOL) en la fabricación de circuitos integrados.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro |
| purity (%) | ≥49.0 (ensayo de HF) |
| sulfate (SO4) | ≤0.1 ppm |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno (grado SEMI C8) |
| particles (≥0.5 µm) | ≤50 por mL |
Aplicaciones
- Ataque químico en húmedo de óxido de silicio (SiO2)
- Eliminación de óxido nativo antes de la deposición de películas delgadas
- Pre-limpieza de superficies de obleas (proceso HF-last)
- Base de formulación de ataque químico de óxido tamponado (BOE)
- Ataque químico de liberación de silicio en MEMS
Características Principales
- Grado de ultra alta pureza SEMI C8 con contaminación metálica sub-ppb
- Ataque químico altamente selectivo de SiO2 sobre Si con control preciso de la velocidad de ataque
- Suministrado en envases de HDPE o FEP para evitar la contaminación
- Compatible con formulaciones de HF diluido (DHF) a cualquier concentración
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