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Reactivo de Limpieza de Obleas SC-2 (HCl/H2O2/H2O)

El SC-2 RCA (Limpieza Estándar 2, HPM: Mezcla de Ácido Clorhídrico-Peróxido) utiliza HCl:H2O2:H2O (1:1:6 v/v) a 65–80°C para eliminar metales alcalinos (Na, K) y contaminación por metales pesados (Au, Cu, Fe) de las superficies de obleas de silicio mediante la formación de complejos clorometálicos. El SC-2 es el segundo paso en la secuencia de limpieza RCA estándar, realizado después del SC-1 para alcanzar niveles de metales sub-ppb esenciales para óxidos de puerta de alta integridad.

Especificaciones Técnicas

appearanceLíquido claro incoloro (cada componente)
purity (%)≥99,9 (cada componente, grado SEMI)
use temperature65–80°C
HCl:H2O2:H2O ratio1:1:6 (estándar, ajustable)
metallic impurities (per component)≤1 ppb cada uno

Aplicaciones

  • Descontaminación SC-2 RCA de metales pesados e iones alcalinos
  • Limpieza de obleas previa a la oxidación de puerta (segundo paso)
  • Eliminación de contaminación por oro y cobre
  • Limpieza de metales en obleas previa al horno de difusión
  • Limpieza de eliminación de residuos metálicos post-CMP

Características Principales

  • Eliminación definitiva de Au, Cu y metales alcalinos mediante formación de complejos clorados
  • Complementa la limpieza SC-1 para una eliminación integral de partículas y metales en dos pasos RCA
  • Componentes disponibles individualmente o como kit de ultrapureza combinado
  • Compatible con equipos de limpieza en lotes de 200mm y 300mm y herramientas de limpieza de oblea única

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Reactivo de Limpieza de Obleas SC-2 (HCl/H2O2/H2O)

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