Grabador de Óxido Tamponado (BOE) NH4F/HF
Número CAS: 7664-39-3
El Grabador de Óxido Tamponado (BOE) es una mezcla de fluoruro de amonio (NH4F) y ácido fluorhídrico (HF) que proporciona una velocidad de grabado estable y controlada para el dióxido de silicio. El tampón de fluoruro de amonio mantiene un pH constante y repone los iones fluoruro, lo que da lugar a velocidades de grabado de óxido más uniformes y reproducibles en comparación con el HF puro. Se utiliza ampliamente en procesos de fabricación de MEMS, CMOS y displays.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro |
| purity (%) | ≥99,5 (valoración de componentes activos) |
| NH4F:HF ratio | 6:1 o 10:1 (en volumen, personalizable) |
| SiO2 etch rate | 100–1000 Å/min (dependiente de la relación) |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno |
Aplicaciones
- Grabado de dióxido de silicio térmico y por PECVD
- Liberación de óxido de sacrificio en MEMS
- Apertura de contactos y vías en CMOS
- Procesos de grabado húmedo compatibles con fotorresina
- Patronado del dieléctrico de puerta en TFT para displays
Características Principales
- Velocidad de grabado estable con mínima deriva durante la vida útil del baño
- Excelente compatibilidad con fotorresina y bajo socavado
- Disponible en relaciones estándar NH4F:HF de 6:1 y 10:1
- Grado de ultra-alta pureza que cumple la especificación SEMI C12
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