Gas Argón para Sputtering (Ar Ultra Puro)
Número CAS: 7440-37-1
El argón (Ar) ultra puro es el principal gas de sputtering y portador en los procesos de deposición física de vapor (PVD), grabado por haz de iones y grabado por plasma en la fabricación de semiconductores. Los iones de argón se aceleran para bombardear blancos metálicos y dieléctricos en la deposición de películas delgadas (Al, Cu, Ti, TiN, TaN) o para realizar fresado iónico con Ar en la definición de patrones en dispositivos III-V y magnéticos.
Especificaciones Técnicas
| oxygen | ≤0,1 ppm |
| moisture | ≤0,1 ppm |
| nitrogen | ≤0,5 ppm |
| appearance | Gas inerte incoloro e inodoro |
| purity (%) | ≥99,9999 (grado semiconductor 6N) |
Aplicaciones
- Sputtering PVD de películas metálicas de Al, Cu, Ti, TiN, TaN
- Fresado iónico con argón para grabado de patrones
- Gas portador y de dilución en grabado por plasma
- Gas portador/purga inerte para CVD y ALD
- Gas para haces de implantación iónica
Características Principales
- Pureza 6N que evita la contaminación del blanco y de la película en sputtering PVD
- Químicamente inerte: no reacciona con los materiales del blanco ni con las películas depositadas
- Ignición y estabilidad de plasma consistentes en un amplio rango de presiones
- Disponible en cilindros de alta presión, paquetes y suministro a granel en estado líquido
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