Hidróxido de Amonio Grado Semiconductor (NH4OH SC-1)
Número CAS: 1336-21-6
El hidróxido de amonio grado semiconductor (28–30% de NH3) es un componente clave de la solución de limpieza RCA SC-1 (NH4OH/H2O2/H2O) utilizada para la eliminación de partículas y contaminación orgánica de obleas de silicio. También realiza un ligero grabado de óxido de silicio para socavar y desprender partículas. Su calidad ultra pura previene la introducción de contaminación metálica durante la limpieza crítica previa al óxido de compuerta.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro |
| purity (%) | ≥28.0 (ensayo de NH3) |
| chloride (Cl-) | ≤0.1 ppm |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno (grado SEMI C5) |
| non-volatile residue | ≤1 ppm |
Aplicaciones
- Limpieza SC-1 (APM) para eliminación de partículas y orgánicos
- Secuencia de limpieza RCA previa al óxido de compuerta
- Grabado ligero de óxido de silicio para desprendimiento de partículas
- Aditivo para revelador basado en TMAH
- Mezcla amoníaco-peróxido (APM) para limpieza posterior a CMP
Características Principales
- Grado ultra puro SEMI C5 para secuencias críticas de limpieza RCA SC-1
- Contenido controlado de NH3 que asegura una tasa de grabado SC-1 y una eliminación de partículas reproducibles
- Bajo residuo no volátil que previene manchas superficiales después de la limpieza
- Suministrado en envases HDPE sellados con capacidad de envío en cadena de frío
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