Peróxido de Hidrógeno Grado Semiconductor (H2O2 30%)
Número CAS: 7722-84-1
El peróxido de hidrógeno grado semiconductor (30%) es un agente oxidante esencial utilizado en los procesos de limpieza de obleas RCA SC-1 y SC-2 para eliminar la contaminación orgánica e iónica. Cuando se mezcla con hidróxido de amonio (SC-1) elimina partículas y materia orgánica; con HCl (SC-2) disuelve iones metálicos. También es un componente clave de la limpieza piraña SPM.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro |
| purity (%) | ≥30.0 (ensayo de H2O2) |
| stabilizer | ≤100 ppm (grados sin fosfato disponibles) |
| total carbon (TOC) | ≤100 ppb |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno (grado SEMI C3) |
Aplicaciones
- Eliminación de partículas y materia orgánica SC-1 (NH4OH/H2O2/H2O)
- Limpieza de contaminación metálica SC-2 (HCl/H2O2/H2O)
- Decapado de fotorresista SPM (H2SO4/H2O2)
- Oxidación de superficies para pasivación
- Enjuague oxidante post-limpieza CMP de cobre
Características Principales
- Grado ultra puro SEMI C3 compatible con todas las secuencias de limpieza RCA
- Grados sin estabilizante disponibles para procesos críticos de óxido de puerta
- Bajo TOC que minimiza la recontaminación orgánica durante la limpieza
- Suministrado refrigerado en envases de HDPE con tapas de alivio de presión
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