Solución Piranha - Mezcla de Peróxido Sulfúrico (SPM)
La solución piranha (SPM: mezcla de ácido sulfúrico/peróxido de hidrógeno, típicamente H2SO4:H2O2 = 3:1 a 7:1 v/v) es una solución de limpieza altamente oxidante utilizada para eliminar contaminación orgánica severa, residuos de fotorresistencia y partículas metálicas de las superficies de obleas de silicio. La mezcla exotérmica genera ácido peroxomonosulfúrico (ácido de Caro), que oxida agresivamente la materia orgánica. Se utiliza tanto en herramientas SPM de proceso por lotes como de oblea individual.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido incoloro fumante (al mezclar) |
| purity (%) | ≥99.5 (componente H2SO4, premezclado) |
| temperature during use | 120–150°C (exotérmico) |
| H2SO4:H2O2 mixing ratio | 3:1 a 7:1 (v/v, personalizable) |
| metallic impurities (pre-mix) | ≤1 ppb cada uno |
Aplicaciones
- Decapado de fotorresistencia pesada y polímeros tras implante iónico
- Eliminación de contaminación orgánica antes de la oxidación térmica
- Limpieza de partículas metálicas y contaminación iónica
- Limpieza de decapado de obleas antes del horno de predifusión
- Eliminación de residuos orgánicos post-CMP
Características Principales
- Eliminación extremadamente agresiva de materia orgánica, incluidas resinas reticuladas e implantadas con iones
- Suministrado como componentes separados de H2SO4 y H2O2 para mezcla segura en sitio
- Compatible con herramientas de dispensación SPM caliente de oblea individual
- Grado ultra-puro de componentes que minimiza la recontaminación metálica durante el decapado
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