Ácido Sulfúrico Grado Semiconductor (H2SO4 96%)
Número CAS: 7664-93-9
El ácido sulfúrico grado semiconductor (96%) es un reactivo químico primario utilizado en la limpieza SPM (mezcla de ácido sulfúrico/peróxido de hidrógeno, piranha) para eliminar fotorresistentes orgánicos y contaminantes de la superficie de obleas. Su altísima pureza garantiza la no introducción de impurezas metálicas durante las etapas críticas de limpieza. También se utiliza en baños de electrodeposición para procesos de cobre damasceno.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido oleoso incoloro |
| purity (%) | ≥96.0 (ensayo H2SO4) |
| chloride (Cl-) | ≤0.1 ppm |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno (grado SEMI C2) |
| nitrogen compounds (as N) | ≤0.5 ppm |
Aplicaciones
- Decapado y limpieza de fotorresistente SPM (piranha)
- Limpieza de obleas pre-difusión
- Electrolito de baño de electrodeposición de cobre
- Eliminación de contaminación orgánica de obleas de silicio
- Eliminación de fotorresistente en implantación iónica
Características Principales
- Grado SEMI C2 con contaminación metálica y de partículas ultrabaja
- Altamente eficaz en el decapado de fotorresistente SPM cuando se combina con H2O2
- Densidad y contenido estables que garantizan resultados de proceso reproducibles
- Suministrado en envases revestidos con FEP para prevenir la lixiviación de metales traza
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