Ácido Nítrico Grado Semiconductor (HNO3 69%)
Número CAS: 7697-37-2
El ácido nítrico grado semiconductor (69%) se utiliza en química de grabado de silicio, oxidación de superficies metálicas y procesos de limpieza de obleas. En combinación con HF, forma la mezcla estándar de grabado de silicio (HNA: HF/HNO3/HAc) para grabado isótropo de silicio. Su formulación ultrapura cumple con los estándares SEMI C1 con contenido de metales traza inferior a 1 ppb.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro a amarillo tenue |
| purity (%) | ≥69.0 (ensayo HNO3) |
| sulfate (SO4) | ≤0.1 ppm |
| chloride (Cl-) | ≤0.1 ppm |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno (grado SEMI C1) |
Aplicaciones
- Grabado isótropo de silicio con HNA (HF/HNO3/ácido acético)
- Oxidación y pasivación de superficies metálicas
- Componente de la solución piranha (SPM)
- Grabado de metales de aluminio y titanio
- Eliminación de contaminación orgánica de la superficie de obleas
Características Principales
- Grado ultrapuro SEMI C1 adecuado para procesos húmedos críticos de FEOL
- Fuerte capacidad oxidante para pasivación efectiva de la superficie de silicio
- Bajo color y bajo contenido de NOx para compatibilidad con sala limpia
- Disponible en formulación estabilizada para minimizar la descomposición
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