Ácido Fosfórico Grado Semiconductor (H3PO4 85%)
Número CAS: 7664-38-2
El ácido fosfórico grado semiconductor (85%) es el agente de ataque húmedo estándar para nitruro de silicio (Si3N4) con alta selectividad sobre el dióxido de silicio y el silicio. Cuando se calienta a 160–180°C, ataca selectivamente el Si3N4 a velocidades de 50–100 Å/min, lo que lo hace esencial para la integración de procesos STI y LOCOS. La calidad ultrapura minimiza la contaminación por partículas y metales.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido viscoso incoloro |
| purity (%) | ≥85.0 (valoración de H3PO4) |
| sulfate (SO4) | ≤0.5 ppm |
| chloride (Cl-) | ≤0.1 ppm |
| metallic impurities | ≤1 ppb cada uno |
Aplicaciones
- Ataque de nitruro de silicio (Si3N4) con ácido fosfórico caliente
- Eliminación de nitruro en aislamiento de zanja poco profunda (STI)
- Remoción de nitruro en proceso LOCOS de óxido de campo
- Ataque húmedo de aluminio metálico (mezcla diluida H3PO4/HNO3/HAc)
- Ataque de vidrio fosfato (PSG/BPSG)
Características Principales
- Alta selectividad para Si3N4 sobre SiO2 (>30:1) en baño a 160°C
- Velocidad de ataque estable con gestión controlada del contenido de agua
- Impurezas metálicas ultrabajas que previenen la degradación del dieléctrico de puerta
- Compatible con herramientas de ataque por recirculación de ácido fosfórico caliente
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