Gas de Grabado por Plasma Tetrafluoruro de Carbono (CF4)
Número CAS: 75-73-0
El tetrafluoruro de carbono (CF4) es un gas versátil de grabado por plasma utilizado para grabar óxido de silicio, nitruro de silicio y silicio en procesos de grabado en seco. Cuando se combina con oxígeno, graba SiO2 con alta selectividad; solo o con H2, se utiliza para grabado anisotrópico de silicio y nitruro. El CF4 también sirve como gas de limpieza de cámara y se utiliza en limpiezas remotas por plasma para reactores CVD.
Especificaciones Técnicas
| oxygen | ≤2 ppm |
| moisture | ≤1 ppm |
| nitrogen | ≤5 ppm |
| appearance | Gas incoloro e inodoro |
| purity (%) | ≥99.999 (grado semiconductor 5N) |
Aplicaciones
- Grabado por plasma de SiO2 y Si3N4 (con O2 o H2)
- Grabado por plasma de silicio y limpieza de superficie
- Limpieza por plasma remoto de cámara CVD
- Grabado de óxido de contactos y vías en CMOS
- Grabado en seco de semiconductores compuestos (GaAs, InP)
Características Principales
- Química de grabado versátil compatible con procesos de óxido, nitruro y silicio
- Selectividad ajustable mediante la adición de O2 (más selectivo al óxido) o H2 (más selectivo al nitruro)
- Menor GWP que el SF6 para ciertas aplicaciones de baja velocidad de grabado
- No inflamable y no tóxico; más fácil de manipular que los grabadores basados en flúor
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