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Solución de Hidróxido de Potasio para Grabado Anisótropo de Silicio (KOH)

Número CAS: 1310-58-3

La solución acuosa de hidróxido de potasio (KOH) es el agente de grabado anisótropo de silicio clásico utilizado en la fabricación de MEMS, que ofrece una selectividad extremadamente alta entre planos cristalográficos. Las concentraciones típicas de 20–40% en peso a 70–80°C proporcionan velocidades de grabado bien controladas con una excelente selectividad {100}/{111} superior a 100:1. El KOH es el agente de grabado preferido para dispositivos MEMS no-CMOS donde la contaminación por metales alcalinos es aceptable.

Especificaciones Técnicas

appearanceLíquido claro incoloro
purity (%)≥99.5 (ensayo KOH, en base seca)
heavy metals≤5 ppm cada uno
concentration (wt%)20–45% (personalizable)
Si etch rate (80°C, 30% KOH)≈ 1.0–1.5 µm/min

Aplicaciones

  • Microfabricación anisótropa de silicio en volumen para MEMS
  • Estructuras de guía de onda en ranura en V y alineación de fibra óptica
  • Grabado de diafragmas para sensores de presión
  • Fabricación de canales microfluídicos
  • Definición de masa de prueba en acelerómetros y giróscopos

Características Principales

  • Selectividad sobresaliente {100}/{111} (>100:1) para la fabricación precisa de microestructuras
  • Datos bien documentados de velocidad de grabado en función de temperatura y concentración disponibles
  • SiO2 y Si3N4 actúan como excelentes máscaras de grabado con alta selectividad
  • Alternativa rentable al TMAH para aplicaciones MEMS no-CMOS

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Solución de Hidróxido de Potasio para Grabado Anisótropo de Silicio (KOH) chemical structure

CAS Number

1310-58-3

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