Hidróxido de Tetrametilamonio (TMAH 25%)
Número CAS: 75-59-2
El hidróxido de tetrametilamonio (TMAH, 25% acuoso) es un agente de grabado alcalino libre de iones metálicos que graba anisotrópicamente el silicio a lo largo de planos cristalinos, proporcionando alta selectividad entre los planos {100} y {111}. Es ampliamente utilizado en el micromaquinado de MEMS para la fabricación de membranas, micropalancas y microestructuras. Como alternativa compatible con CMOS al KOH, el TMAH no introduce contaminación por metales alcalinos.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido claro incoloro |
| purity (%) | ≥25.0 (ensayo TMAH) |
| Si etch rate (80°C) | ≈ 0.5–1.0 µm/min |
| {100}/{111} selectivity | >30:1 |
| metallic impurities (Na, K, etc.) | ≤1 ppb cada uno |
Aplicaciones
- Micromaquinado en masa de silicio anisotrópico (MEMS)
- Fabricación de membranas y diafragmas de silicio
- Revelado de fotorresistente positivo (2.38% diluido)
- Grabado de estructuras en ranura en V y pirámide
- Grabado húmedo de silicio compatible con CMOS
Características Principales
- Química libre de iones metálicos completamente compatible con la fabricación CMOS
- Alta selectividad {100}/{111} que permite una definición precisa de microestructuras
- Uso dual: tanto como agente de grabado de silicio en masa como revelador de fotorresistente
- Disponible en múltiples concentraciones (2.38%, 5%, 10%, 25%)
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