Hexametildisilazano (HMDS) Promotor de Adhesión
Número CAS: 999-97-3
El hexametildisilazano (HMDS) es el promotor de adhesión universal para fotorresistas utilizado en litografía de semiconductores. Aplicado mediante imprimación por vapor (vapor prime) o spin-coat antes del recubrimiento del fotorresista, el HMDS reacciona con los grupos OH superficiales para formar una monocapa hidrofóbica de trimetilsililo (TMS), mejorando drásticamente la adhesión del fotorresista sobre superficies de óxido y nitruro y previniendo la delaminación del patrón durante el revelado.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido transparente incoloro |
| purity (%) | ≥99.9 (ensayo GC) |
| boiling point | 125°C |
| water content | ≤20 ppm |
| metallic impurities | ≤0.1 ppb cada uno |
Aplicaciones
- Imprimación por vapor antes del spin-coat del fotorresista (horno HMDS)
- Hidrofobización de superficies de óxido y nitruro
- Adhesión del fotorresista en paredes laterales de vías y huecos de contacto
- Preparación de superficies de oblea para resistas revelados en seco
- Pasivación de la superficie de obleas de silicio tras limpieza con HF
Características Principales
- Promotor de adhesión estándar de la industria validado en todas las principales plataformas de resistas
- El vapor prime permite un tratamiento uniforme de topografías 3D complejas de obleas
- Contenido de agua ultra bajo que previene la hidrólisis prematura durante el almacenamiento
- Compatible con sistemas de resistas g-line, i-line, DUV 248nm y 193nm
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