Chemzip

Dietilamino Trimetilsilano (TMSDEA) Agente de Sililación

Número CAS: 996-50-9

El dietilamino trimetilsilano (TMSDEA) es un reactivo de sililación utilizado en litografía de semiconductores para modificar la química superficial de fotorresistencias y mejorar la adhesión. Como agente de tratamiento superficial para procesos de fotorresistencia sililada (p. ej., proceso DESIRE), convierte los grupos OH de las superficies de fotorresistencia en grupos OSi(CH3)3, mejorando la selectividad de grabado. También se emplea en la funcionalización de superficies ALD y en la reparación de superficies dieléctricas de baja constante k.

Especificaciones Técnicas

appearanceLíquido claro incoloro
purity (%)≥99.5 (GC assay)
boiling point126°C
water content≤50 ppm
metallic impurities≤1 ppb cada uno

Aplicaciones

  • Modificación superficial de fotorresistencias sililadas (proceso DESIRE)
  • Funcionalización de grupos hidroxilo superficiales en ALD
  • Reparación de superficies dieléctricas de baja constante k tras daño por plasma
  • Promoción de la adhesión de fotorresistencias sobre superficies de óxido
  • Pasivación de superficies para deposición en áreas selectivas

Características Principales

  • Alta reactividad con grupos OH superficiales para una sililación rápida a temperatura ambiente
  • Formulación libre de iones metálicos, adecuada para procesos de dieléctrico de puerta CMOS
  • El subproducto (dietilamina) es volátil y se elimina fácilmente mediante purga
  • Sensible a la humedad; suministrado bajo gas inerte en recipientes metálicos sellados

Send Inquiry

Your information is used only to respond to your inquiry and will not be shared.

Dietilamino Trimetilsilano (TMSDEA) Agente de Sililación chemical structure

CAS Number

996-50-9

Availability

In Stock

Sample

Dispatched within 5 days

Get a QuoteWhatsApp

Más en Químicos para Grabado de Semiconductores

Comprado frecuentemente con

TelegramWhatsApp