Acondicionador de Pad CMP con Punta de Diamante

Name: Acondicionador de Pad CMP con Punta de Diamante
Brand: Chemzip
Price: 1 USD
Availability: InStock

Los acondicionadores de pad CMP utilizan abrasivos de diamante electrodepositados o soldados sobre un disco de acero inoxidable para acondicionar y retexturizar continuamente los pads de pulido CMP durante la planarización de obleas. El acondicionamiento regular elimina las superficies vidriadas del pad y restaura la estructura de microasperidades necesaria para un transporte de slurry y una tasa de remoción consistentes. Esencial para mantener la uniformidad en la tasa de remoción de pad a pad y de oblea a oblea.

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Especificaciones Técnicas

appearance	Disco metálico circular con superficie de grano de diamante
purity (%)	≥99.9 (grado abrasivo de diamante)
disk diameter	100–200 mm (depende de la herramienta)
diamond bond type	Electrodepositado o soldado
diamond grit size	40–200 µm (depende de la aplicación)

Aplicaciones

Acondicionamiento in-situ del pad CMP durante el pulido de óxido y metal
Acondicionamiento ex-situ para rodaje y retexturización del pad
Procesos CMP de STI, damasceno de Cu y plug de W
Extensión de la vida útil del pad y recuperación de la tasa de remoción
Compatibilidad con herramientas CMP de 200 mm y 300 mm

Características Principales

Recuperación consistente de la topografía superficial del pad para tasas de remoción estables
La opción de diamante soldado ofrece mayor vida útil que la electrodepositada
Tamaño de grano y patrón personalizables disponibles para necesidades específicas del proceso CMP
Compatible con plataformas CMP de las series Mirra, Reflexion y FREX