Fotorresist Negativo Epoxi SU-8
El SU-8 es un fotorresist de tono negativo, químicamente amplificado y de base epoxi, capaz de producir microestructuras muy gruesas (1–500 µm) y de alta relación de aspecto (>20:1) con paredes laterales casi verticales. Ampliamente adoptado para la fabricación de MEMS, microfluídica y empaquetado avanzado, el SU-8 se retícula con exposición UV o UV cercano para formar una estructura permanente o de sacrificio química y mecánicamente robusta, adecuada para aplicaciones exigentes.
Especificaciones Técnicas
| appearance | Líquido viscoso ámbar oscuro |
| purity (%) | ≥99.5 (contenido de sólidos por formulación) |
| viscosity (cP) | 45–55000 (múltiples grados de espesor) |
| aspect ratio achievable | >20:1 |
| available film thickness | 1–500 µm por capa |
Aplicaciones
- Fabricación de microestructuras y cantiléver para MEMS
- Moldes de canales microfluídicos y laboratorio en chip
- Molde de galvanoplastia para el proceso LIGA
- Capa estructural de empaquetado a nivel de oblea
- Fabricación de guías de onda ópticas y micro-ópticas
Características Principales
- Capacidad única para microestructuras ultragruesas (>100 µm) de alta relación de aspecto
- Formulación químicamente amplificada para alta sensibilidad con exposición UV cercano (365 nm)
- Excelente resistencia química tras el horneado duro para uso en entornos agresivos
- Puede utilizarse como material estructural permanente o como capa de molde de sacrificio
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